知识产权机构韩国特许厅 31日宣布，将从 1日起将国内研究、开发或生产的显示领域的专利申请指定为优先审查对象，为期一年。具体对象包括与显示材料、部件、设备，制造、设计技术直接相关的申请，以及韩国国内生产或准备生产显示相关产品、设备等企业的申请，和与显示技术相关的国家研究开发项目成果相关的申请等。

特许厅预计，通过这个制度，原本平均需要16个月才能开始的一般专利审查周期，将缩短至平均2个月内。与此同时，安排 部署 31日结束的半导体领域的申请优先审查对象指定，也将延长一年。如果申请与半导体材料、部件、设备，制造、设计技术直接相关的专利，也将能够接受优先审查。

此外，考虑到念念不忘 朝三暮四申请优先审查时，很多情况下很难预测专利分类（CPC）是否符合条件，因此将删除与现有半导体相关的专利分类要求。据悉，这一措施是为了支持韩国企业发生 伐木国际显示领域专利争端日益加剧的情况下，快速获得专利而实施的。

（来源：集微）

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